日本Rapidus公司完成1台EUV光刻机筹备
原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度，去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus，计划2025年试产2nm工艺，而且很快就筹备了EUV光刻机。
日本当前的逻辑工艺还在28nm以上，但是Rapidus公司选择跳过中间的工艺，直接搞2nm工艺，而5nm以下的工艺都离不开EUV光刻机，不论研发还是制造都要先买设备。
Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露，他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备，不过具体的型号及进度没有说明，不确定是ASML的哪款EUV光刻机，何时安装、测试也没公布。
Rapidus公司成立了仅仅9个月多，不到一年时间就筹备完成EUV光刻机，进度确实很快。
小池淳义表示，通常大规模量产先进工艺需要至少1000名工程师，但他们引入了AI和自动化技术，现在有500名工程师了，用一半的资源就能完成。
根据该公司的计划，他们2025年试产2nm工艺，2027年量产，2030年代预计营收将达到1万亿日元。
